金屬膜厚分析儀 FT150/FT150H/150L 產品型號：FT150
分為三項規格：FT150、FT150L、FT150H #膜厚分析
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FT150
伴隨光學系的升級，實現相比以往機型更高的靈敏度
對應nm級Au鍍層及數十nm Pd鍍層測量效率提升2倍以上
FT150L
對應600 mm×600 mm 大型線路板
配備防X射線洩漏的封閉結構樣品室
FT150H
對應微區Sn、Ag等鍍層測量
對應陶瓷電子元件端子、Sn-Ag無鉛焊錫等
FT150配備新型聚光光學系和更高規格的Vortex檢測器，能夠得到比以往機型更高強度的X射線螢光。
相比以往機型（FT9500X系列），對應微小金屬鍍層測量的效率提高2倍以上，在相同的測量時間下能夠提高其測量精度。
實現高精度並且高效的測量。
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項目 描述 X射線照射方向 上方照射式 上方照射式 Al (13) ~ U(92) 測定環境 大氣 Ｘ射線發生部 45kV, 鉬Mo 靶材 設計 毛細管聚焦Poly-capillary 管電流 最大1000μA 可變 X射線檢測部 Silicon Drift Detector (SDD) 測定面積 φ0.030mm(FWHM 0.017mm) 最大樣品面積 長400mm、寬300mm、高200mm 電動XY樣品台驅動 移動範圍 400×300mm CCD Camera 1百萬相數 對焦模式 雷射自動對焦 測量模式 Thin Film FP (5層, 10元素)/檢量線法 選配 FT150H : 鎢W target
FT150L : 鉬Mo target
