X-ray螢光-XRF XRF光管電壓與電流在實際測試上的差異

XRF是目前針對材料中的元素成分分析的一種常用設備，一般普遍的應用有；RoHS分析、無鹵素分析、金屬合金分析、土壤重金屬分析、玩具中的鉛含量分析、礦物土壤的成分分析…等，只要是需要分析元素成分的比例、含量都可以透過XRF進行分析比對。
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而目前XRF的使用者大多不清楚X光管對於檢測的重要性，以及在使用上到底應該如何調整測試條件已達到最佳的分析效果，接下來就說明XRF在使用上需要注意的地方。

首先XRF針對的元素進行分析，而判斷的方式是透過能量位置進行定性（詳細XRF原理，請參考” RoHS檢測設備XRF的技術原理”），所以當我們需要激發目標元素時，我們一般需要調整到該元素分析能量的1.5~2倍電壓，如下圖一所示：

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圖一 Cd元素分析能量

Cd元素的分析能量位置為Ka 23.108 keV，Kb 26.084keV，而建議的激發電壓約為元素能量的1.5~2倍，所以不管是40kV or 50kV對於Cd的分析都可以執行，由圖二可以知道當我們使用15kV的電壓去激發能量位置超過10keV，基本上已經無明顯的效果，所以對於元素分析時電壓的選擇也是一門很重要的學問。

圖二 15kV(空白) VS 50kV(黑色)的能譜差異

而電流對於我們在分析時的差別在哪?一般而言光管電流決定元素的激發強度，同一個樣品分別使用100uA & 1000uA的電流時，激發出來的訊號強度明顯有落差(如下圖三)，當使用高電流時可以有效的將訊號的強度增強，對於高濃度的樣品可以有明顯的效果，相同的對於低濃度的分析更是有極大的幫助。

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