X-ray螢光-XRF EA1000AIII / EA1400 多功能XRF作為Cu/Ni/Au銅鎳金膜厚分析

SEA1000A系列應該是到目前為止全球最普遍用來作為RoHS及無鹵素監控的XRF設備，從SEA1000A, SEA1000AII，進化到EA1000AIII, EA1000VX, EA1200VX，科邁斯的EA XRF客戶已經遠遠超過1000個以上，隨著歐盟對於有害物質及國際大廠的要求越來越嚴格，所以測試範圍已從Pb, Cd, Hg, Br, Cr…慢慢增加S, Sb, Sb…。

對於EA1000 系列的RoHS重金屬濃度監控能力毫無疑問，實際上客戶使用SEA1000A與EA1000A系列還有一個功能就是一台膜厚儀，但當然此系統的限制是在光束只能限制在1mm，小於此大小的樣品只能用專業膜厚儀如FT100A, FT150H, FT160…，也就是有超過面積1mm直徑的金屬鍍膜有非常高的準確度及精確度，我們利用EA1000AIII的兩種方法來測試最典型的銅底鍍鎳鍍金Cu/Ni/Au來測試EA 1000AIII的膜厚功能。

日立_XRF螢光分析儀_EA系列

一般常見的電池金手指或是PCB的金手指，半導體導線架，都是常用銅鍍鎳鍍金的鍍層。

我們使用兩種模式比較，薄膜塊體分析FP法的優點是標準品使用非常少，利用強大FP軟體來計算，對於很難找到標準片的金屬鍍膜很適合使用，而且可以控制在一定的準確度，另外一種檢量線法，檢量線法需要較多標準片但優點是準確度可以作到非常好。

Cu/Ni/Au 銅鍍鎳鍍金薄膜FP法測試：30sec 回測標準品:Cu/Ni5.1(μm)/Au0.889(μm)
	Au(μm)	Ni(μm)
標準值	0.8890	5.1000
1	0.8908	5.0476
2	0.8882	5.0629
3	0.8835	5.0823
4	0.8869	5.0767
5	0.8848	5.0788
6	0.8875	5.0985
7	0.8860	5.0819
8	0.8872	5.0935
9	0.8874	5.0685
10	0.8849	5.0682
AVE平均值	0.8867	5.0759
SD標準差	0.0021	0.0149
CV or RSD相對標準偏差	0.23%	0.29%
Error誤差	0.26%	0.47%

Cu/Ni/Au 銅鍍鎳鍍金薄膜FP法測試：30sec 回測標準品:Cu/Ni1.08(μm)/0.123(μm)
	Au(μm)	Ni(μm)
標準值	0.1230	1.0800
1	0.1231	1.0830
2	0.1220	1.0707
3	0.1239	1.0783
4	0.1225	1.0724
5	0.1241	1.0724
6	0.8875	1.0760
7	0.1233	1.0807
8	0.1234	1.0774
9	0.1237	1.0815
10	0.1221	1.0775
AVE平均值	0.1232	1.0770
SD標準差	0.0007	0.0042
CV or RSD相對標準偏差	0.60%	0.39%
Error誤差	0.02%	0.28%

Cu/Ni/Au 銅鍍鎳鍍金薄膜FP法測試：30sec 回測樣品:Cu/ Ni 1.08(μm)/Au 0.01(μm)
	Au(μm)	Ni(μm)
標準值	0.0100	1.0800
1	0.0106	1.0678
2	0.0104	1.0784
3	0.0097	1.0769
4	0.0096	1.0813
5	0.0103	1.0765
6	0.0105	1.0715
7	0.0096	1.0695
8	0.0105	1.0750
9	0.0101	1.0718
10	0.0094	1.0886
AVE平均值	0.0101	1.0757
SD標準差	0.0005	0.0062
CV or RSD相對標準偏差	4.49%	0.57%
Error誤差	0.70%	0.40%

日立_X螢光元素分析儀_軟體檢測畫面

SEA1000AII, EA1000AIII, EA1000VX, EA1200VX都是非常好的膜厚儀，軟體內含有兩種膜厚功能，一種是薄膜分析FP法、一種是薄膜檢量線法，以上數據都是利用最簡單的薄膜分析FP法測試，對於就算奈米等級厚度只有10nm厚度的Au都可以作到誤差(Error)非常的低，標準偏差(SD)及相對偏差(CV or RSD)都很低，高準確度及高精密度足以作為精密電子件或五金加工件的膜厚分析工具。

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