- 技術原理 -
11.Jan.2021
X-ray螢光-XRF 利用XRF進行殘留微小異物分析方法
隨著品質要求提升,XRF螢光元素分析儀儼然已成為各家中小企業工廠品管系統內必備的IQC成分檢驗的項目之一,然而,XRF除了用作於RoHS歐盟有害物質檢驗分析外,還可以用來作為什麼應用呢?
如下客戶在製成中,發現基材上不時有異物殘留,於是欲希望利用XRF元素分析儀,來進行異物定性功能分析,解決異物為何,出自於何處。
(左圖客戶樣品為塑膠板材,其表面有一微小長條狀異物殘留於其上)
分析方式如下:
一般異物由於面積非常小,可建議採用最小的XRF的光徑,來進行元素分析
- 若為SEA或EA系列桌上型XRF,其最小光徑為1mm ;
- 若為Olympus DELTA或VANTA手持式XRF,最小光徑則可確認是否選配3mm光徑
異物定性分析方法流程 :
- 先測試含異物區塊。
- 再選不含異物的背景區進行測試。
- 進行兩能譜比對(相減),透過能譜或成分差異進一步判別異物成分。
分析異物結果報告:
由此分析方法得知,雖傳統方法異物大部分皆由SEM-EDX來進行,然而XRF最小光徑(1mm)較SEM大,倘若殘留未知物仍有釐米等級面積大小,還是可藉由殘留的異物與背景材料的對比分析方式,從而獲得異物為何,不失為一個取代SEM之快速分析方法。
測試參考條件
[X-射線能譜]
樣品影像 – A (含異物) | 樣品影像 – B (背景處) |
---|---|
上圖紅圈區塊則為XRF測試之區塊 |
測試參考條件
樣品 | A | B |
---|---|---|
測量時間(秒) | 250 | 250 |
Collimator | 圓圈1.0mm | 圓圈1.0mm |
X-光管電壓(kV) | 50 | 50 |
X-光管電流(μA) | 1000 | 1000 |
濾波器 | Pb用 | Pb用 |
[X-射線能譜]
從以上[X-射線能譜]相扣除後得知,於銅(Cu)分析線處為相異之處,因此可確認該異物其包含銅(Cu)成分。
此異物判定測試結果為銅(Cu)異物掉落或殘留。
此異物判定測試結果為銅(Cu)異物掉落或殘留。
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