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- 技術原理 -
11.Jan.2021

X-ray螢光-XRF 利用XRF進行殘留微小異物分析方法

文章-橫幅 
隨著品質要求提升,XRF螢光元素分析儀儼然已成為各家中小企業工廠品管系統內必備的IQC成分檢驗的項目之一,然而,XRF除了用作於RoHS歐盟有害物質檢驗分析外,還可以用來作為什麼應用呢?
 
如下客戶在製成中,發現基材上不時有異物殘留,於是欲希望利用XRF元素分析儀,來進行異物定性功能分析,解決異物為何,出自於何處。
 
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(左圖客戶樣品為塑膠板材,其表面有一微小長條狀異物殘留於其上)

 

  分析方式如下:
 
一般異物由於面積非常小,可建議採用最小的XRF的光徑,來進行元素分析
  • 若為SEA或EA系列桌上型XRF,其最小光徑為1mm ;
  • 若為Olympus DELTA或VANTA手持式XRF,最小光徑則可確認是否選配3mm光徑
 

  異物定性分析方法流程 :
 
  1. 先測試含異物區塊。
  2. 再選不含異物的背景區進行測試。
  3. 進行兩能譜比對(相減),透過能譜或成分差異進一步判別異物成分。
 

  分析異物結果報告:
 
由此分析方法得知,雖傳統方法異物大部分皆由SEM-EDX來進行,然而XRF最小光徑(1mm)較SEM大,倘若殘留未知物仍有釐米等級面積大小,還是可藉由殘留的異物與背景材料的對比分析方式,從而獲得異物為何,不失為一個取代SEM之快速分析方法。

 
樣品影像 – A (含異物) 樣品影像 – B (背景處)
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上圖紅圈區塊則為XRF測試之區塊

測試參考條件
樣品 A B
測量時間(秒) 250 250
Collimator 圓圈1.0mm 圓圈1.0mm
X-光管電壓(kV) 50 50
X-光管電流(μA) 1000 1000
濾波器 Pb用 Pb用

[X-射線能譜]
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對於微小樣品或汙染物分析定性與定量可使用 EA1000AIII, EA1200VX 或EA6000VX根據應用需求選擇具有適合光徑(Collimator)的XRF。
 

EA1000AIII

EA1200VX

EA6000VX

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從以上[X-射線能譜]相扣除後得知,於銅(Cu)分析線處為相異之處,因此可確認該異物其包含銅(Cu)成分。
此異物判定測試結果為銅(Cu)異物掉落或殘留。


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