X-ray螢光-XRF Hitachi EA1400表面金屬工藝技術分析–化學鍍鎳膜厚與XRF分析應用

金屬鍍層在多樣產品中提供卓越的表面性能，其在眾多工業領域中皆具關鍵地位。這些鍍層不僅能有效保護基材，提供耐用且抗腐蝕之屏障，更能極大程度降低金屬產品的磨耗程度。同時，金屬鍍層亦能夠提升導電性、扭矩抗力以及可焊性等功能特性。對於鍍層的成分和厚度進行嚴格的質量控制則呈不可或缺的重要性，正是透過此措施能夠確保鍍層完美呈現所需性能及其耐用性。

▲圖一硬幣表面被覆蓋上一層特定的金屬或合金，以增加硬幣的耐用性、外觀和防止氧化

化學鍍鎳（Electroless Nickel plating, 簡稱ENP）

則是一種重要的自催化化學工藝，適用於在基材上鍍覆一層鎳磷（Ni-P）合金鍍層。鎳磷塗層之厚度通常介於1µm至40µm，具體值則視乎不同之應用需求而定。該化學鍍鎳鍍層得以呈現不同磷含量，而此特性將影響其相應之冶金性能。磷含量範圍通常介於2%至15%之間。低磷鎳塗層具備的優點在於其能確保複雜零件的內外層厚度均衡，而高磷含量的鍍層則能夠滿足對於耐腐蝕性和延展性極具挑戰性的工業應用。

▲圖二擁有良好的均鍍能力與極低的孔隙率為化學鍍鎳的兩大特色

Hitachi EA1400作為一項先進的技術，能夠為金屬鍍層的嚴格質量控制提供可靠的解決方案。藉助X射線螢光（XRF）膜厚分析，EA1400能夠準確地確定材料的元素組成。在金屬鍍層的應用中，XRF分析能夠同步測量鍍層的厚度和成分，這項技術為眾多具有挑戰性的鍍層測量需求提供了高效且精確的解決方案。

對於化學鍍鎳鍍層的嚴格質量控制而言，Hitachi EA1400專業的膜厚分析為一極有效的方法。透過經國際認證的膜厚參考標準品進行精準校準，提供其卓越的分析精確性和卓越的膜厚再現性。

▲圖三 Hitachi EA1400的專業膜厚鍍層分析模式，可依據客戶需求狀況建立對應標準曲線

Hitachi EA1400嚴謹的分析控制(檢量線)確保化學鍍鎳磷鍍層在各項應用中均能達到所期望的性能標準，從而提高產品的耐用性和可信賴性，從而實現對鍍層性能的綜合質量控制。這項精密的分析技術不僅能夠揭示鍍層的物理特性，還能對其化學組成進行細致解析，從而深入了解鍍層的性能和可靠性。經過測試分析，可確保磷含量的高度精確性與再現性，並為鍍層的制定和優化提供可靠的數據基礎。


▲圖四左圖為標準品，右圖為三重複測試結果，清晰呈現了Hitachi EA1400的出色精密再現性

化學鍍鎳在廣泛領域扮演著關鍵角色，提供保護及功能增強。具多樣性的化學鍍鎳鍍層，適應各種需求。然而，Hitachi EA1400技術透過X射線螢光分析，精確確定成分和厚度，其在質量控制上的重要性不可忽視。結合成分分析和膜厚分析功能，提升鍍層性能與穩定性。Hitachi EA的XRF先進技術革命性地推動塗層技術，為工業界帶來持續革新的可能。

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