X-ray螢光-XRF 金屬鍍層中鉛含量檢測神器！Hitachi EA桌上型XRF帶您高效解密

Ni-P 鍍層中鉛含量限值管理與說明

化學鎳或稱無電鍍鎳 (Ni-P) 鍍層與無鉛焊料鍍層，在各種產品中用作於薄膜鍍層。在 Ni-P 鍍層中，鉛 (Pb) 被用作電鍍槽內的穩定劑，即使在無鉛焊料鍍層中，也會含有少量的鉛作為雜質（重量百分比不超過 1,000ppm），因此，工廠需控制鍍層中的鉛(Pb)及其他物質濃度是否超過 RoHS 法規指令規定之限值。

▲圖一 Hitachi EA1400 XRF螢光元素分析儀

以下說明如何運用Hitachi EA1400 XRF分析化學鎳(Ni-P)鍍層與無鉛焊料鍍層中的鉛(Pb)濃度及厚度的同步分析例子。

當使用塊體分析FP 方法對鍍層樣品進行定量分析時，計算結果基於的假設與樣品的實際情況有所不同。因此，透過採用考慮鍍層樣品層結構的 Thin-film FP 方法，可更準確地測定鍍層中成分的濃度，以下提供實際之範例說明：

Hitachi XRF螢光元素分析儀-EA1400

對於達到無限厚度的樣品應採用 Bulk FP 方法進行定量測定	對於未達到無限厚度的樣品應採用 Thin-film FP 方法進行定量測定

▲圖二 XRF不同鍍層厚度對於選擇不同之對應分析方法

HitachiEA1400 無電鍍 (Ni-P) 範例-磷(P)與鉛(Pb)濃度及厚度分析

	P (wt%)	Pb (wt%)	Thickness (µm)
Standard value	6.76	0.0481	4.93
Bulk FP method	6.65	0.0278	-
Thin-film FP method	6.79	0.0515	4.98

▲圖三 Hitachi EA1400 XRF無電鍍化學鎳鍍層的分析範例

Hitachi EA1400無焊料 (SAC305) 鍍層分析範例-銀(Ag)與鉛(Pb)濃度及厚度的分析

	Ag (wt%)	Pb (wt%)	Thickness (µm)
Standard value	3.00	0.0300	10.0
Bulk FP method	2.10	0.0594	-
Thin-film FP method	3.29	0.0311	10.5

▲圖四 Hitachi EA1400 XRF無鉛焊料鍍層的分析範例

Hitachi EA1400 採用考慮樣品鍍層厚度的 Thin-Film FP 法，特別適用於鍍層樣品進行 RoHS 指令篩查檢驗。結合科邁斯的專業標準建立技術，能更精確地分析鍍層中含鉛等有害物質的濃度，為各大專業企業提供全面且可靠的解決方案。

Third Party 第三方測試報告

▲圖五第三方的化學分析RoHS測試結果

Hitachi 高性能XRF螢光元素分析儀可快速精準分析甚低濃度的RoHS含量，嚴格把關即便微量的無機重金屬，Hitachi XRF元素分析不僅用於廠內快速判定是否符合綠色環保RoHS標準，並且是一種有效且公認的必備材料品質檢驗的環保利器，當以XRF元素分析中這種方式使用時，它可以減少實驗室的分析量，降低成本節省時間，並得到快速的精確數據。

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