- 活動 -
16.Apr.2014
研討會 最新XRF Seminar增加快訊
科邁斯科技將於2014年4月24日舉辦 2014 有害物質檢測新產品與技術說明會，許多客戶反應想進一步了解有關RoHS之外的其他元素，對於定性或定量上是否有相對應檢測方式及技術；有鑑於此，我們於本次內容增加了如下相關最新議題：
(1)目前大廠新增有害物質需求及應對方式，包含Sb, Sn, As,Ni,Co,S,....
(2)高階大面積自動掃描式XRF，針對PCBA等大面積作全自動化的快速分析
(3)XRF膜厚分析及細小異物快速判定功能應用分享
(4)最新Laser元素分析新技術快報
針對RoHS以外的元素進行測試包含，目前已經在執行的一些RoHS之外的檢測，另外對於高階掃描的元素分析方式包含膜厚與異物分析都也一併包含在內。
此外，Laser的元素分析設備，是當前市場上最新的技術，測試速度僅1秒即可測試完畢且分析元素從H1~U92都可以檢測，包含許多相關產業想直接檢測到的C6含量，都可以在此技術中直接進行，敬摯邀請各位先進一同蒞臨參與!!
活動資訊：
活動時間：2014年4月24日 (四)
活動地點：台灣大學應用力學研究所國際會議廳
活動地址：台北市大安區羅斯福路四段一號
課程內容：2014國際環保要求趨勢分析暨XRF新產品技術研討會
報名方式：請點此處前往報名參加
報名費用：全程免費參加
注意事項：每公司以2人為限。
截止日期：即日起至2014/4/22或額滿為止
聯絡窗口：劉芝廷、黃瓊玉 小姐 (02)8990-1779 分機5201或 5101
2014 有害物質檢測新產品與技術說明
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時間
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內容
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主講人
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|---|---|---|
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13:30-13:50
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報到
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13:50-14:00
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國際環保法規訊息、要求及檢測技術經驗分享
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科邁斯科技
業務經理 朱文德 先生 |
| 14:00-14:40 |
2014國際法規趨勢及大廠管控經驗分享
◆ 2014國際環保法規說明( RoHS2.0 / WEEE, REACH, Halogen Free…)
◆ 最新大廠有害物質管控要求訊息及應對分析分享(以Apple, Samsung, ...為例)
◆ 最新大廠要求訊息及XRF應對 Sb, As, Sn…
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科邁斯科技
業務專員 陳韋安 先生 |
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14:40-15:00
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Tea Time
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15:00-15:50
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有害物質檢測控管技術與新產品發表
◆ 2014 XRF新品發表
◆ 分析軟體、硬體功能大躍進
◆ 高階異物掃描與分析應用分享
(多零件主機板上有害物質大面積自動掃描) ◆ 最新Laser元素分析新技術快報 |
科邁斯科技
業務副理 徐孟濤 先生
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15:45-16:10
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Tea Time
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16:10-17:00
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產品檢驗方式與XRF多元化測試應用
◆ X-ray膜厚量測與定性功能比對說明
◆ 材料有害物質檢測注意要項
◆ XRF螢光元素分析干擾排除差異
◆ RoHS管控元素之外的定量分析方式
(淺談最新硫的管控) |
科邁斯科技
業務專員 任睎皓 先生
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17:00-17:10
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Q & A
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若有任何問題歡迎您與我們聯絡。
☎️ +886-2-8990-1779
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